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鍍膜類型及其對Er,Yb:glass+Co:spinel鍵合晶體的有益影響

1. 簡介

鍍膜技術在提升激光晶體性能方面至關重要。通過改善晶體表面的光學特性,鍍膜能夠減少能量損耗,穩定激光運行,并優化能量轉換效率(ECE)。對于 Er,Yb:Glass + Co:spinel 鍵合晶體而言,由于其特殊的光學需求和在高功率激光系統、光通信以及精密工業加工中的應用,鍍膜顯得尤為重要。在這些應用場景中,即使是微小的光學損耗也可能對整體性能產生顯著影響。

鍍膜車間
圖1. 鍍膜車間

此外,鍍膜還能保護晶體表面免受濕氣、灰塵及機械損傷等環境因素的影響,從而延長系統的使用壽命并提高可靠性。通過應用抗反射(AR)、高反射(HR)和部分反射(PR)鍍膜,Er,Yb:Glass在寬波長范圍內的不同工作條件下均能實現卓越的性能。

本文從三個關鍵維度探討Er,Yb:glass與Co:spinel復合晶體的涂層技術:涂層種類、運作機制及實際應用場景。這些核心要點展示了先進涂層技術如何在嚴苛光學環境中提升性能、延長使用壽命并增強功能多樣性。

2. Er,Yb:glass + Co:Spinel鍵合晶體的鍍膜類型

根據產品信息,Er,Yb:glass + Co:Spinel鍵合晶體常采用 抗反射鍍膜(AR)、高反射鍍膜(HR) 部分反射鍍膜(PR),每種鍍膜都有其特定的應用功能。

  • 抗反射鍍膜(AR)

AR 鍍膜的主要作用是減少表面反射損耗,提高光的透過率。

典型波長:AR@1535nm,該鍍膜針對 1535nm 激光波長進行優化,能夠最大程度減少晶體界面的反射,提高泵浦光和激光束的耦合效率,從而提升整體激光系統的性能。
技術特點:AR 鍍膜采用多層光學薄膜結構,通過干涉效應削弱特定波長的反射,確保高透過率。
應用領域:廣泛用于 高功率激光器 以及 低損耗光通信設備。

  • 高反射鍍膜(HR)

HR 鍍膜旨在使激光晶體的一端形成 高反射表面,從而增強腔內的光能循環,提高激光增益。

典型配置:HR@1535nm + AR@940nm,其中 1535nm 端的HR鍍膜促進激光振蕩,而 940nm 端的AR 鍍膜則用于減少泵浦光的反射損耗。
技術特點:HR 鍍膜通過 精確控制鍍膜厚度和折射率,在特定波長下實現近 100% 反射率,可針對多波段進行優化。
應用領域:適用于全反射腔設計,特別是在高增益激光系統中應用廣泛。

  • 部分反射鍍膜(PR)

PR 鍍膜通常用于激光諧振腔的 輸出耦合面,允許部分光子透過晶體表面形成激光輸出。

典型配置:PR@1535nm + HR@940nm,1535nm 端的PR鍍膜允許部分激光透射輸出,同時 940nm 端的 HR 鍍膜優化泵浦光傳輸效率。
技術特點:PR 鍍膜通過精確調節反射率,在腔內實現激光增益平衡,同時優化輸出效率。
應用領域:適用于高功率激光輸出或需要穩定輸出功率的系統。

 Er,Yb:glass與 Co:Spinel 材料的參數和配置比較
圖2. Er,Yb:glass與 Co:Spinel 材料的參數和配置比較

通過應用這些鍍膜,Er,Yb:glass+Co:Spinel bonding晶體在各種工作條件和應用場景中都能表現出色,例如 高功率激光器、雷達和光通信。

3.鍍膜技術的原理與工藝

光學薄膜的干涉原理

鍍膜技術基于光學薄膜的干涉效應。通過在晶體表面 沉積高折射率和低折射率的交替薄膜層,可以精確調控界面的反射與透射特性。

抗反射鍍膜(AR):利用 干涉效應 降低特定波長的反射,提高透射率。
高反射鍍膜(HR):通過 多層干涉效應 增強特定波長的反射,實現高反射率。

薄膜干涉原理
圖3. 薄膜干涉原理

鍍膜材料的選擇

常用的鍍膜材料包括 二氧化硅(SiO?)、二氧化鈦(TiO?) 和 氟化鎂(MgF?)。材料的組合依據波長范圍和應用需求進行優化選擇。

鍍膜工藝流程

  1. 真空蒸發(Vacuum Evaporation):在真空環境中加熱材料,使其蒸發并沉積在晶體表面。
  2. 電子束鍍膜(Electron Beam Coating):利用電子束加熱材料,以提高鍍膜沉積的精度,適用于 高性能光學元件。
  3. 離子束輔助鍍膜(Ion Beam-Assisted Coating):利用離子束增強鍍膜層的 附著力和密度,提高 耐久性 和 環境穩定性。

4. 鍍膜技術對 Er,Yb:glass + Co:spinel鍵合晶體激光性能的影響

降低光學損耗
AR 鍍膜能顯著減少晶體表面的反射損耗,使更多的泵浦光子和激光光子參與 激光增益過程。針對 1535nm 和 940nm 波長 進行優化設計,可最大程度提高泵浦光的利用率。

增強諧振腔穩定性
HR鍍膜提供穩定的高反射表面,防止由于反射不均勻導致的 腔損失,從而提高激光腔的穩定性。
PR鍍膜精確控制激光輸出光子的數量,確保腔內能量均勻分布,從而 穩定激光輸出功率。

提高激光輸出效率
PR 鍍膜
通過優化輸出耦合面的反射率,在保證足夠腔內激光增益的同時,實現高功率穩定輸出。例如,1535nm 處的PR鍍膜在光纖激光器中表現出優異的輸出特性。

拓寬應用范圍
多波長鍍膜設計 使 Er,Yb:glass + Co:Spinel鍵合晶體不僅可用于通信波段(1535nm),還適用于高功率泵浦激光器(940nm)。這使其應用擴展至 光學放大器、生物醫學成像及精密工業加工等領域。

1535nm人眼安全激光器
圖4. 1535nm人眼安全激光器

5. 結論與未來展望

應用于 Er,Yb 玻璃 + Co:尖晶石鍵合晶體的鍍膜技術是提升激光性能的關鍵因素。通過精確設計和優化 AR、HR 和 PR 鍍膜,可以有效減少光學損耗、提高諧振腔穩定性,并最大化輸出效率。此外,鍍膜技術使晶體能夠在多波長范圍和復雜環境下穩定運行。隨著鍍膜工藝的不斷發展,Er-Yb 晶體的性能將持續提升,為未來高端光學系統提供強有力的技術支持。

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